在科技突飞猛进的今天，小小的芯片，成了许多电子产品的命门，而芯片的真正掌控者，扼住了大多数人的命门。
如今的日本，正是这样一位专扼命门的独裁者。
生产芯片时需要用到一种名为光刻胶的重要材料，目前世界市场上的光刻胶，有90%都是日本制造。
为何世界上那么多国家，偏让日本垄断了市场？面对日本垄断，我国该如何应对？
光刻胶在谈日本如何凭借光刻胶一手遮天前，我们先来了解一下什么是光刻技术，以及什么是光刻胶
光刻技术，顾名思义就是用光来进行雕刻，听起来像是种浪漫的艺术，也有些匪夷所思。
光刻技术在芯片领域的运用，与一位名为戈登·摩尔的美国人有关，他是美国著名的科学家，也是一位富有的企业家，曾一同参与创建了英特网，算是时代的一位巨人。
摩尔并不是光刻机的发明人，只是他发现的一个定律，改变了光刻机的地位。定律的大致内容是：一块芯片的晶体管数量会随时间增加，晶体管越多，芯片运算的速度越快。
人们遵循这个定律，为了得到运算更快的芯片，在小小的硅片上加料，可芯片毕竟太小，想要做出更多晶体管，就必须精细到纳米级别。
要知道，一根头发的直径就是5纳米，叫你在一根头发截面上雕刻图案，能做到吗？当然不能，这是超越人类极限的。
靠着传统的方式做不到，有人想到了利用光来进行放大雕刻，于是，光刻机隆重登场了。
人们利用光刻机，可以轻松地让光纤透过放大且透过的模子，直接照射到硅片上，在上面“雕刻”出所需要的芯片结构。
光刻机的发展并没有到此就停滞，后来者使用时发现，光刻机的分辨率与光的波长有着密切关系，经过一番探究，发现这种关系呈正比。
简单说，就是想要“刻画”出更小的尺寸，就需要缩短光的波长。
此后的光刻机朝向了更短光波发展，经过5次版本升级，光的波长由初级版本的436纳米，缩小到了最终的13.5纳米。
光刻机认识的差不多，接下来了解一下光刻胶。
光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的一种混合液，它是进行光刻时必不可少的材料。
在光刻开始之前，需先将一层光刻胶涂在硅片上。因为对光的反应灵敏，涂层经过曝光后，会被直接溶解，没被曝光的部分得以保留。
随着光从掩模版上照到涂层上时，因光的明暗变化，模版上的电路图就会转移到光刻胶上。
这一步完成后，进入到了光刻环节，在整个过程中，光刻胶主要起到防腐蚀的作用。
当然，不是所有的光刻胶都是曝光后溶解，有的刚好相反。
根据其化学反应和显影原理的区别，光刻胶被分为两类，即负性胶合与正性胶。
负性胶在一些溶剂中可溶，经过曝光后变成不可溶物质。正性胶正好相反，它们对某些溶剂不可溶，但经过曝光后变成得可溶物质。
光刻胶于1950年被发明，之前很长一段时间里都是做着印刷照片的工作，直到1989年，日本研发出极紫外线技术，才在半导体领域崭露头角。
随后几年，光刻胶的的发展天翻地覆，从只能产出200纳米的芯片，到如今，已经能精细到7纳米，成了芯片领域必备材料。
日本的垄断1826年，法国人涅普斯发现了具有感光性的兼容沥青，1832年，德国人舒柯发现了重铬酸盐在明胶等有机物中具有感光性
若说光刻胶是谁发明的，这很难说清，这是一个智慧汇聚的过程，许多国家的顶尖头脑，都贡献出来一份力。
但要说是现在哪个国家光刻胶发展最好，那日本是唯一的答案。
虽然在发明光刻胶这条路上没日本的戏份，但早期日本在照片印刷上大量使用了光刻胶，与它混了个脸熟，为后续发展奠定了基础。
到上世纪七八十年代，日本政府又搞了个“VLSI项目”，这个项目主要是研究大规模的集成电路，在这个过程中，日本成功突破了晶圆大口径、高纯度硅材料制备等技术，铺好了以后半导体发展的道路。
到九十年代时，各国开始你追我赶，朝着半导体产业发力，日本原本占据的市场，也被各方夺去不少。
但靠着光刻胶、电子气体等关键材料领域的突破，日本最终还是打赢了这场半导体之战。
凭借着不断积攒起来的底蕴，如今日本成功拿下半导体市场，尤其光刻胶市场，目前全球五大光刻胶企业中，日本就有四家，占了世界总产量的90%。
日本野心并没有得到满足，他要的不仅是市场，还是绝对的话语权。
随着野心暴涨，他的制裁行动，也在对其有威胁的国家中开在，其中影响最大的，莫过于2019年日韩半导体贸易战。
当年日本大手一挥，将韩国挪出了“白色清单”，这个清单大概就是客户名单一类，日本的意思很明显，不再卖韩国半导体材料。
这里的半导体材料除了光刻胶外，还有氟聚酰亚胺和氟化氢。
面对这样的制裁，韩国政府当然不会怂，他们更改法律政策，斥巨资鼓励企业进行研究。
在重金诱惑，以及外部压力下，专家们成功突破技术壁垒，打碎了日本如意算盘。
日本见韩国不认怂，只能先认了，重新将韩国拉回白色清单，解除对韩国贸易的禁令。
日本除了对外进行垄断政策，对内也在进行光刻胶的国有化。
在之前，日本政府就致力于支持日本投资公司，让其以9039亿日元的价格，收购日本光刻胶制造商JSR。
这种收购行为，不光是为了对国内企业的管控，更多的是想通过光刻胶产业国有化，形成一个稳定的供应链，保护技术不被他人窃取，保证国际竞争力。
我国如何破局日本之所以能一家独大，并不是研究光刻机有多难，说白了，就是研究这东西不赚钱，因此很多企业不愿涉足这一领域。
据相关贸易统计，如今光刻胶市场，只有22亿，这其中还有一大部分被日本所把控。
要知道，研发光刻胶并推广，需要耗费大量的成本，造出来以后，还要与日本老厂争这22亿，无异于自寻死路。
所以世界上很多的国家宁愿出钱去买日本的，也不愿耗费成本自己研发。
由此可见，日本在光刻胶的至高地位，并不是技术上带来的十足优势，而是早期养成的市场，让后来者难以插足。
这一点，在2019年日韩贸易战中显而易见。
当年韩国被日本限制时，仅用3年的时间就打破了垄断。这期间，除了研究人员的努力，还有韩国花费出去的6万亿资金作为保障。
所以说，只要有利可图，再大的问题都不是问题，光刻胶并不是一道难以逾越的技术难关，关键是在逾越的时候，是赚得盆满钵满，还是亏得老本不剩。
如果政府不给予政策支持，那结果很显然是后者。
韩国政府在吃过一次亏后，对半导体也十分重视，为企业提供低息贷款，减少税收。在光刻胶生产、晶圆等关键技术领域加大财政拨款。
同时还加强对外企业的合作，颁布法律改善半导体的研究环境。
我国在半导体材料领域，也提供了很多的政策支持，至于最终成败如何，还得依靠企业自身发展。
我们在回看日本的发展之路时，也应从中找到自己的路。
日本半导体技术之所以能一路势如破竹，最大的原因在于研发投入够多，当一个企业敢于破釜沉舟干大事，很难有不成的。
其次是加强对外的合作，闭关锁国的弊端，当年的清政府就生动展示出来了，只有加强中外企业的合作，才能集多方之力，加快研发进程。
除了对外技术交流，还需吸引更多的外来投资，毕竟前面说了光刻胶的研发不只是技术问题，更多的是成本，只有吸引更多的投资，才能走得更远。
最为关键的一点，是半导体的布局问题，如今光刻胶市场规模小，这是有目共睹的，光是致力于一种产品的研发，只会走入死胡同。
所以生产厂家应该围绕光刻胶形成一条半导体的产业链，做到生产销售合为一体，才能面对更多的风险。
光刻胶的研发不仅是技术与人才的竞争，更是发展方向与决策的竞争，只有找对了方向，前进才有意义。
